NPC-4000（M）等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2023-11-13
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產(chǎn)品詳情

NPC-4000（M）等離子去膠機（刻蝕機）概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。

NPC-4000（M）等離子去膠機（刻蝕機）產(chǎn)品特點

緊湊型立式系統(tǒng)
手動上下載片
不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
兼容100級超凈間使用
淋浴頭、ICP或微波等離子源
旋轉(zhuǎn)樣品臺
RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
全自動或手動RF調(diào)諧
z多可支持8個MFC帶電拋光的氣體管路
PC計算機控制的氣動閥
帶密碼保護(hù)的多級訪問控制
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
機械泵的壓力可達(dá)到10mTorr
250 l/s的渦輪分子泵
極限真空為5x10-7Torr
完整的安全聯(lián)鎖

NPC-4000（M）應(yīng)用：

有機物以及無機物的殘留物去除
光刻膠剝離或灰化
去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用
清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架
提高黏附性，消除鍵合問題
塑料的表面改型：O2處理以改進(jìn)涂覆性能
產(chǎn)生親水或疏水表面

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