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NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統(tǒng)

NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統(tǒng):利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過(guò)大面積離子源產(chǎn)生的離子束,可對(duì)固體材料濺射刻蝕,對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-13
  • 訪  問(wèn)  量:1998
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產(chǎn)品詳情

IBM離子銑

NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統(tǒng)產(chǎn)品概述:利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過(guò)大面積離子源產(chǎn)生的離子束,可對(duì)固體材料濺射刻蝕,對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。該系統(tǒng)為全自動(dòng)上下載片,計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。

NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)的同時(shí),旋轉(zhuǎn)晶圓片以達(dá)到想要的均勻度。

NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
  • 16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動(dòng)不銹鋼遮板
  • 離子束中和器
  • 氬氣MFC
  • 6”水冷樣品臺(tái)
  • 晶片旋轉(zhuǎn)速度3、10RPM,真空步進(jìn)電機(jī)
  • 步進(jìn)電機(jī)控制晶圓片傾斜
  • 自動(dòng)上下載晶圓片
  • 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min
  • 6”范圍內(nèi),刻蝕均勻度+/-3%
  • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可達(dá)到10-6Torr級(jí)別(配套500 l/s渦輪分子泵)
  • 配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達(dá)8x10-8Torr
  • 磁控濺射Si3N4以保護(hù)被刻蝕金屬表面被氧化
  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
  • 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問(wèn)保護(hù)
  • 完整的安全聯(lián)鎖

 

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