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微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到z大可達6”直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無...

金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是納米制造領(lǐng)域的一項著名技術(shù)，在大規(guī)模集成電路、絕緣材料、磁性材料、光電子材料領(lǐng)域有著*的重要地位。通過利用氣相間的反應(yīng)，它能將蒸發(fā)的反應(yīng)物沉積在表面形成薄膜，比如說石墨烯就是CVD廣為認知的產(chǎn)物，但目前看來，制備薄膜半導(dǎo)體材料也是它受重視的應(yīng)用之一。金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的原理：CVD的研究始于十九世紀末，主要用于重要材料的合成和制備。若想知道CVD是如何制造特定薄膜的，那就得先了解它的原理。CVD屬于“自下而上”的納米制造技術(shù)，其原理是把含有構(gòu)成...

光學(xué)鍍膜系統(tǒng)是在一個腔體中實現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進行表面涂覆，整個過程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計也可以支持其中任一個腔體的單獨使用，同時具備各自的自動上/下載片功能。簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定...

空間環(huán)境模擬試驗設(shè)備，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環(huán)套件下測試器件或樣品。該系統(tǒng)具有計算機控制、安全連鎖，以及多級密碼授權(quán)訪問保護的功能。它可以用于超過24小時的圈子全自動熱、冷循環(huán)情況下測試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統(tǒng)z通常的應(yīng)用之一是太空模擬?？臻g環(huán)境模擬試驗設(shè)備腔體的大致尺寸為：直徑24"，長度43"。帶有一個16"x32"的滑動加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個平臺的溫度均勻度...

熱真空試驗箱是專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質(zhì)而設(shè)計的，工作時可使工作室內(nèi)保持一定的真空度，并能夠向內(nèi)部充入惰性氣體，特別是一些成分復(fù)雜的物品也能進行快速干燥，采用智能型數(shù)字溫度調(diào)節(jié)儀進行溫度的設(shè)定、顯示與控制。熱真空試驗箱外殼由鋼板沖壓折制、焊接成型，外殼表面采用高強度的靜電噴塑涂裝處理，漆膜光滑牢固。工作室采用碳鋼板或不銹鋼板折制焊接而成，工作室與外殼之間填充保溫棉。工作室的內(nèi)部放有試品擱板，用來放置各種試驗物品，工作室外壁的四周裝有云母加熱器。門封條采用硅橡膠條密封，...

進口光學(xué)鍍膜機主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜(控制電柜、電子槍電柜)組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。進口光學(xué)鍍膜機工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋牧鲜軣岷笳舭l(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。進口光學(xué)鍍膜機維護與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設(shè)備的清洗與保養(yǎng)。1.定期更換擴散泵油擴散泵油使用一段時...

我們的優(yōu)勢｜離子束刻蝕NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強的適應(yīng)性，可以根據(jù)不同的應(yīng)用建立不同的結(jié)構(gòu)，不同的樣品臺和離子源配置可實現(xiàn)不同的應(yīng)用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺可實現(xiàn)正負90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。NM成熟的技術(shù)可控制基片溫度在50℃以內(nèi)。通過傾斜和旋轉(zhuǎn)，深溝可切成斜角，通過控制側(cè)壁輪廓和徑向可提高均勻性，不同的構(gòu)造不同的應(yīng)用可選擇不同的選配項，也可增加濺射實現(xiàn)刻蝕之后的涂覆保護。應(yīng)用十分廣泛。NANO-MASTER的離子束刻蝕在行業(yè)中非常有競爭力，它憑什么可...

NANO-MASTERNLD-4000型等離子增強原子層沉積系統(tǒng)可以提供高品質(zhì)的薄膜沉積，通過配套ICP離子源系統(tǒng)可以支持PEALD和T-ALD等廣泛應(yīng)用。眾多的優(yōu)勢配置，使得NLD-4000型系統(tǒng)具有許多優(yōu)勢：√超高的薄膜均勻性√良好的粘附力√超凈的沉積（高真空支持）√出色的工藝控制√高度的可重復(fù)性（計算機全自動工藝控制）√易使用（可直接調(diào)用編好的工藝程序）√運行可靠（所有核心組件均帶有保護）√低維護（完整的安全互鎖）√高、低溫基片樣品臺√小的占地面積26”x44”√全自動...